MESA/SC晶片清洗設(shè)備

產(chǎn)品簡(jiǎn)介
MESA/SC晶片清洗設(shè)備該機(jī)清洗程序?yàn)樗嵯础⒊曄础娏芮逑础⒘飨础Ｆ涔に囆阅苤笜?biāo)及可靠性達(dá)到進(jìn)口同類設(shè)備水平。采用進(jìn)口PP板制作。

適用MESASC晶片清洗。

超聲功率強(qiáng)勁，性能穩(wěn)定。

采用進(jìn)口超聲波電源。

產(chǎn)品型號(hào)：

更新時(shí)間：2021-06-10

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產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

半導(dǎo)體電子設(shè)備

全自動(dòng)硅片（晶片）超聲波清洗機(jī) 硅片甩干機(jī) 單槽分體式超聲波清洗機(jī) 四槽半自動(dòng)超聲波清洗機(jī) 半自動(dòng)超聲波清洗機(jī) 全自動(dòng)陶瓷盤超聲波清洗機(jī) 硅片擴(kuò)散超聲波清洗機(jī) MESA/SC晶片清洗設(shè)備晶片腐蝕清洗機(jī) 外延片（硅片）腐蝕清洗機(jī) 立式旋轉(zhuǎn)沖洗甩干機(jī) 濕法腐蝕清洗系統(tǒng) 硅材料清洗旋轉(zhuǎn)沖洗甩干機(jī)

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自魯超創(chuàng)立始，就始終不解地致力于新型設(shè)備的研究制造、新工藝的開發(fā)，與多家高等院校保持合作關(guān)系。魯超*的超聲波換能器和大功率模塊電源技術(shù)在國內(nèi)享有很高的聲譽(yù)，近年來在全國各個(gè)大型企業(yè)清洗設(shè)備招標(biāo)中多次中標(biāo)。

MESA/SC晶片清洗設(shè)備

概述：

該設(shè)備用于晶片的清洗處理。該機(jī)清洗程序?yàn)樗嵯础⒊曄础娏芮逑础⒘飨础Ｆ涔に囆阅苤笜?biāo)及可靠性*達(dá)到進(jìn)口同類設(shè)備水平。

MESA/SC晶片清洗設(shè)備

主要特點(diǎn)：

采用進(jìn)口PP板制作。

適用MESA*SC晶片清洗。

超聲功率強(qiáng)勁，性能穩(wěn)定。

采用進(jìn)口超聲波電源。